真空鍍膜技術(shù)及其特點(diǎn)
1、在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)(或?yàn)R射),使其沉積在被涂覆的物體(稱基片、基板或者基體)上的方法稱為真空鍍膜法。
在材料的表面上,鍍上一層薄膜,就能使該種材料具有很多新的物理和化學(xué)性能。過(guò)去在物體表面上鍍膜作為物體表面改性的一種方法,多采用濕度鍍膜法,即電鍍法和化學(xué)鍍法。電鍍法中被電解的離子鍍到作為電解液另一個(gè)電極的基本表面上。故此,這種鍍膜的基體應(yīng)是良導(dǎo)體,而且膜層厚度難于控制;化學(xué)鍍法是應(yīng)用化學(xué)還原原理,使鍍膜材料溶液迅速參加還原反應(yīng),沉積在基體上。這兩種方法不但膜的附著強(qiáng)度差,膜層厚度不勻,而且還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液而造成公害。因此它們?cè)诒∧ぶ苽涔に嚿鲜艿搅撕艽蟮南拗啤?/p>
2、真空鍍膜法是一種新的鍍膜工藝,由于薄膜制備工藝是在真空條件下進(jìn)行的,故稱真空鍍膜法。亦稱干式鍍膜法。它與濕式鍍膜法相比較具有以下特點(diǎn):
●真空下制備薄膜,環(huán)境清潔,膜不易受污染,可獲得致密性好、純度高、膜度均勻的涂層。
●膜材和基體材料有廣泛的選擇性,薄膜厚度可進(jìn)行控制,可以制備各種不同的功能性薄膜。
●膜與基體附著強(qiáng)度好,膜層牢固。
●不產(chǎn)生廢液,避免對(duì)環(huán)境的污染。
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作者:德耐爾@德耐爾空壓機(jī) 空壓機(jī)修訂日期:2017-05-26
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